同济大学毕业生演讲提及中国首台国产 ArF 浸没式光刻机交付，可支撑 7nm 制程

2025 年 5 月，由贺荣明团队自主研发的首台氟化氩（ArF）浸没式光刻机正式交付中芯国际。该设备搭配多重曝光工艺，可稳定支撑 7nm 及以上芯片制程生产，打破了国外在高端前道光刻设备领域的长期垄断。

团队自上世纪 80 年代起扎根上海张江，从零搭建自主技术体系，先后攻克精密光学、超精密运动控制等关键技术。其研发的先进封装光刻机国内市场占有率超 80%，国际占比 33%，位居全球前列。

https://news.tongji.edu.cn/info/1002/94903.htm